HTR-01 桌式4英寸快速退火炉
HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
主要应用领域：
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火;
金属合金;
热氧化处理;
化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;
太阳能电池片退火;高温退火;
高温扩散。
产品特点
● 快速加热和降温: 高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。
● 控温: 采用工业级温控器进行PID控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度控制。
● 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，高真空度可达10-5Pa。
● 配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。
● 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，全方位保障仪器使用安全。
● 售后服务：，能快速反应客户售后需求。
|
大样品尺寸
|
4英寸（直径20mm）
|
|
控温范围
|
RT~1200℃
|
|
升温速率(max)
|
50℃/s
|
|
高温段降温速率（max）
|
600℃/min
|
|
温度均匀性
|
≦1%
|
|
控温精度
|
±0.1℃
|
|
气体流量
|
标配1路，可扩展至多路
|
|
放样管径
|
Ф210mm*320mm
|
|
放样数量
|
4-10个
|
|
真空度
|
真空度可以达到10-5
|
|
控制方式
|
支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛，也可设置通过软件控制真空及通气时间
|
